纯金属单质靶材

铬靶材

产品简述:

我司提供的铬靶材采用先进的热等静压(HIP)工艺生产,产品包括矩形靶、圆弧靶、环形靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有纯度和密度可控、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。

13365870915(微信同号)
产品详细
我司提供的铬靶材采用先进的热等静压(HIP)工艺生产,产品包括矩形靶、圆弧靶、环形靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有纯度和密度可控、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。

纯度:99.5%~99.95%

成型工艺:热等静压;

常规尺寸:ID55*OD70*LID125*OD153*L φ100*40mmφ150*30mmφ155*30φ80*40mm等等;

用途:装饰镀膜,工具镀膜,平面显示镀膜,薄膜太阳能工业,平板显示工业,节能玻璃工业,光学镀膜工业(如汽车后视镜镀膜)等。

 
铬靶Chromium target 性能Product performance
纯度/%
Purity
      99.5 99.95
密度/g/cm3
Density
       ≥7.12 ≥7.12
晶粒度/μm
Grain size
       ≤100 ≤100
金属杂质总和/ppm
Total content of metallic impurities
        ≤5000 ≤500
热导率/W/m.K
Thermal conductivity
       60 100
热膨胀系数/1/K
Coefficient of thermal expansion
         8×10-6 8×10-6
规格尺寸/mm
Size
平面靶
Planar target
≤1600×500 ≤1600×500
旋转靶
Rotating target
热等静压整体成形
Integral formingby HIP
长度Length≤4000
厚度Thickness≤15
热等静压整体成形
Integral formingby HIP
长度Length≤4000
厚度Thickness≤15

2N5   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 铁(Fe) 铝(Al) 硅(Si) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
标准(Standard) ≤1500 ≤1200 ≤1500 ≤200 ≤50 ≤1400 ≤300
测试值(Test values) 980 300 600 62 50 1200 200
 
 
2N8   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 铁(Fe) 铝(Al) 硅(Si) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
标准(Standard) ≤800 ≤300 ≤400 ≤200 ≤50 ≤1000 ≤100
测试值(Test values) 740 78 92 84 50 340 30
 
 
3N   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 铁(Fe) 铝(Al) 硅(Si) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
标准(Standard) ≤500 ≤100 ≤150 ≤150 ≤30 ≤500 ≤100
测试值(Test values) 290 47 80 90 28 450 50
 
3N5   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 铁(Fe) 铝(Al) 硅(Si) 铜(Cu) 镍(Ni) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
标准(Standard) ≤100 ≤50 ≤50 ≤10 ≤50 ≤50 ≤30 ≤150 ≤80
测试值(Test values) 50 45 40 7 10 24 27 137 30
 
高纯铬颗粒:常用粒度有:1-3mm,3-5mm,40目,-20-300目,40#,60#,80#,200#等用于蒸发镀膜,纯度高,蒸镀效果好




铬旋转靶材、铬管靶

铬管靶可加工成热等静压(HIP)整体成型铬管靶和喷涂铬管靶,两种铬管靶相比,热等静压整体成型铬管靶具有氧含量低、致密度高、镀膜均匀致密质量好等优点,缺点成本较高。

 

热等静压铬管靶

纯度:99.8%

工艺:热等静压一体成型高纯铬靶

常用规格:高纯铬管靶,高纯铬环靶,长度500~2000mm,直径:70-155mm,管厚:3-10mm,按您的要求定做。

相对于传统等离子喷涂,热等静压管靶单边更加厚,使用寿命更长是,传统喷涂靶3倍,含氧量更低。

 

喷涂铬管靶

成型工艺:热等静压、喷涂

用途:工具镀膜、装饰镀膜、建筑玻璃镀膜

常规尺寸:ID125xOD145~155xL mm

 

 

性能

喷涂铬管靶材

热等静压整体成形铬管靶材

氧含量/ppm

5000

80-1500

镀膜均匀性

Deposition uniformity

1.     整管轴向致密度相差较大

2.     整炉上中下LAB值相差较大

3.     无法保证产品膜层的一致性

1.     整管均匀性高

2.     密度接近于纯金属热挤压密度,管材通体密度一致

3.     无松散区、无暗区

4.     PVD膜层的厚度及颜色的一致性好

5.     整炉上中下LAB值统一性好

镀膜电流密度

无法实现大电流长时间工作

大功率长时间稳定工作

 

分享到:
相关产品

关闭
13365870915 工作时间:9:00-18:00

扫二维码微信沟通
百度商桥咨询
关闭客服